可灵活应对多种样品尺寸和样品类型的成像应用的X 射线显微镜Xradia 410 Versa
Xradia 410 Versa 填补了高性能三维 X 射线显微镜技术解决方案与传统低成本、低性能且基于投影的计算机断层扫描（CT）系统之间的空白。多种射线源的选择可灵活应对多种样品尺寸和样品类型的成像应用。
Xradia Versa 显微镜架构运用了两级放大倍率技术，从而让您不受工作距离的限制，始终保持较高空间分辨率（RaaD）。在第一级中，使用传统 micro-CT 系统借助几何放大倍率来放大样品图像。在第二级中，闪烁器会将 X 射线转换成可见光，然后再进行光学放大。降低对几何放大倍率的依赖使
Xradia Versa 显微仪器可以在较长工作距离内保持亚微米分辨率，从而让您能够更高效地研究不同大小的样品，包括在原位样品室内。
无损三维成像，更大限度保护和扩展贵重样品的利用率
<0.9 µm 的空间分辨率和 100 nm 体素大小
适用于低原子序数材料和软组织的先进成像衬度解决方案
业界领先的四维和原位成像技术，适用于不同尺寸和材料类型的样品
搜索和扫描（Scout-and-Scan™）功能可实现多用户环境下的简化工作流程
大负荷样品台、扩展的光源及探测器行程
几乎无样品制备需求
通过多级放大探测器实现轻松导航
利用自动多点断层成像和重复扫描实现连续操作
高速重构
可选配的Versa原位辅助装置支持环境样品舱内（如线缆和管线）的配套设施，为实现原位实验更高3D分辨率提供更优异的成像性能和轻松设置
可选配的自动进样系统可编程和同时运行多达14个样品，提高了生产效率，全自动工作流程可用于大体积扫描
业界领先的四维和原位成像性能，适用于多种样品尺寸和样品类型
Xradia 410 Versa X 射线显微镜为多种样品和研究环境提供了经济灵活的 3D 成像解决方案。无损X射线成像技术确保了贵重样品的利用率。这款显微镜可以实现900
nm的真实空间分辨率和100 nm 的可实现体素。先进的吸收和相位衬度技术（可用于软材料和低原子序数材料）提供了更多的功能克服传统计算机断层扫描技术的局限性。
Xradia Versa 超越了传统微米 CT 和纳米 CT 系统的限制，为拓展您的研究打下坚实的基础。传统断层扫描技术仅依赖于单级几何放大，而Xradia 410 Versa 依靠同步辐射的光学器件，采用了蔡司独特的两级放大技术。Xradia
Versa系列拥有灵活的衬度、高易用性和蔡司突破性的大工作距离下的高分辨率（RaaD）特性，实现在实验室中对各种类型和尺寸的样品和多种应用进行前所未有的探索。多尺度范围成像功能可以对同一样品进行大范围的多倍率成像，使其能表征材料随时间（4D）或在模拟的环境条件下（原位）的演化。
另外，搜索和扫描控制系统（Scout-and-Scan）可根据不同的设置实现多种工作流程环境，使得Xradia
410 Versa方便不同经验水平的用户使用。
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